颗粒硅下游应用情况

李  香

协鑫科技控股有限公司

E-mail: lixiang_sz4@gcl-power.com

报告摘要

为提升下游单晶客户使用体验，提高颗粒硅在晶体生长环节的生产效率、提高硅单晶的成品率和硅片电学性能，颗粒硅在纯度提升、浊度控制、大粒径优化、脱氢改良等方面进行持续技术突破。目前，颗粒硅金属杂质控制优异，金属5元素≤0.5ppbw产品比例达95%，金属5元素≤0.3ppbw产品比例超75%。浊度水平越来越优，颗粒硅产品浊度均在120 NTU以内，浊度≤100 NTU的产品比例达98.2%。公司成功实现了颗粒硅粒径的提升，且产品比例不断提升，大粒径颗粒硅D32≥2000μm。同时，公司持续优化脱氢工艺，降低拉晶阶段的氢跳现象，提升成晶率，减少断线问题。